3000 °C高溫石墨爐

描述：3000 °C高溫石墨爐LHT 型由于體積小，因此采用單個壁爐加熱器加熱。內部溫度曲線優于 ± 10 K。這種均勻性是通過精心設計和定位加熱元件實現的。 LHTG 采用石墨加熱元件和絕緣材料。如果需要 3000 °C 的最高溫度，則必須專門設計隔熱層厚度和石墨隔熱層，以承受超高溫度。安裝的功率也必須適合達到 3000 °C 的高加熱速率。

產品型號：LHT GR
廠商性質：代理商
更新時間：2025-05-16
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產品詳情/ PRODUCT DETAIL

標題：3000 °C高溫石墨爐

產品概述

3000 °C高溫石墨爐

LHT 3000 °C高溫石墨爐系列的特別之處在于設計緊湊，是研發環境中實驗室的理想工具。 實驗室爐的圓柱形可用空間被加熱元件和隔熱材料包圍。加熱室與水冷容器融為一體。由于體積小，LHT 非常適合用于小型樣品，而且所需的操作空間也很小。系統由一個框架平臺支撐，該平臺支撐著加熱爐和裝有軟件控制裝置的電子柜。支撐平臺上裝有腳輪，可使整個系統輕松移動。對于大學和工業研究實驗室來說，LHT 系列非常適合此類操作區域。該系統整體尺寸小，操作簡單，成本效益高，在溫度均勻性或氣氛質量方面不會有任何性能損失。此外，圓柱形設計適合超壓熱處理工藝。根據要求，該系統可配備適當的鎖定裝置和所有必要設備，用于安全超壓操作，最高壓力可達 100 巴。金屬 LHT 型基于鎢或鉬制成的加熱元件和輻射屏蔽，最高溫度分別為 2200 °C 和 1600 °C。輻射罩的作用是將加熱元件的熱量與水冷容器隔開。金屬 LHT 系統可提供最高的大氣純度和優良的最終真空度。渦輪分子泵與前置泵相結合，可使工作真空達到高真空區域。根據要求，還可提供超高真空配置。

應用實例：

金屬注塑成型

標準參數：

▏ 緊湊設計貼合實驗室應用需求

▏ 優良真空度

▏ 高真空度可能低于5x10-6 mbar

▏ 分壓范圍10-1000mbar

▏ 高壓最高至100bar

▏ 石墨制加熱元件最高達3000°C

▏ 可提供氫分壓控制

▏ 粉末樣品抽真空操作平穩可控

▏ 數據記錄，用于質量管理

作用原理：

LHT 3000 °C高溫石墨爐內部：1.水冷爐膛2.加熱元件3.頂蓋，手動操作4.熱電偶5.頂部的熱輻射屏蔽6.爐體輻射屏蔽7.電極LHT 型由于體積小，因此采用單個壁爐加熱器加熱。內部溫度曲線優于 ± 10 K。這種均勻性是通過精心設計和定位加熱元件實現的。 LHTG 采用石墨加熱元件和絕緣材料。如果需要 3000 °C 的最高溫度，則必須專門設計隔熱層厚度和石墨隔熱層，以承受超高溫度。安裝的功率也必須適合達到 3000 °C 的高加熱速率。加熱盒由水冷容器包圍。加熱爐配有所有必要的法蘭、熱電偶、電氣連接和高溫計。為了安全起見，容器為雙壁水冷式。電氣連接和電纜也是水冷卻的。軟件操作可選擇手動或自動控制。對于手動版本，所有閥門和泵都通過用戶面板上的簡單按鈕進行操作，并使用轉子流量計調節氣體流量。自動軟件則通過觸摸屏界面進行操作。質量流量控制器用于調節氣體流量。手動和自動操作均可進行數據記錄。

技術參數：

LHTG 100-200/22-1G

保溫材料	石墨
體積（L）	1.5
真空的最高溫度（°C）	2200
氣氛時的最高溫度（°C）	2200

尺寸: 外部高 x 寬 x 深 (mm)	1800 x 1900 x 1000
重量（kg）	780
可用空間
? x H, usable space without retort (mm)	100 x 200
? x H, usable space with retort (mm)	90 x 200
熱性能參數
ΔT, 從500-2200攝氏度（根據DIN 17052）	± 10
最大升溫速率（k/min）	10
冷卻時間（H）	4
電氣參數
功率 (kW)	22
電壓（V）	400 (3P)
電流（a）	3 x 55
保險絲（A）	3 x 63
真空（選項）
泄漏率（清潔、冷態、空爐膛）（mbar l/s）	< 5x10-3
真空度，取決于真空泵	粗或細真空
冷卻水需求
流量 (l/min)	20
冷卻水最高溫度（°C）	23
工藝氣氛
氮氣或氬氣，其他氣體請聯系廠家（L/H）	50-500
控制器
手動操作	TP1200 touch panel
自動操作	TP1900 touch panel, Siemens S7-1500 PLC

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3000 °C高溫石墨爐

LHTG 100-200/22-1G

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